ISBN/价格: | 978-7-121-46624-3:CNY42.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | Zemax光学设计实践基础/.施跃春,吴平辉,陈家璧编著 |
出版发行项: | 北京:,电子工业出版社:,2023 |
载体形态项: | 194页:;+图:;+26cm |
一般附注: | 光电信息科学与工程类专业精品教材 |
提要文摘: | 本书首先给出Zemax光学设计入门操作、优化的基本概念、透镜基本原理与基本优化设计、平面系统设计、光束限制设计与多重结构设计、光能计算、像差计算;然后给出像质评价、Zemax优化设计方法、面向光通信模块的4个设计案例和面向成像镜头的三片式成像系统及苹果手机镜头设计案例;最后给出超构透镜与Zemax联合设计案例。 |
题名主题: | 光学设计 教材 |
中图分类: | TN202 |
个人名称等同: | 施跃春 编著 |
个人名称等同: | 吴平辉 编著 |
个人名称等同: | 陈家璧 编著 |