ISBN/价格: | 978-7-5612-4739-6:CNY39.00 |
---|---|
作品语种: | chi |
出版国别: | CN 610000 |
题名责任者项: | 薄膜技术与应用/.冯丽萍,刘正堂编著 |
出版发行项: | 西安:,西北工业大学出版社:,2016.02 |
载体形态项: | 222页:;+图:;+26cm |
丛编项: | 西北工业大学研究生高水平课程体系建设丛书 |
提要文摘: | 本书主要内容包括真空技术基础、真空蒸发镀膜、分子束外延生长、溅射镀膜、激光脉冲沉积、离子镀和离子束沉积、化学气相沉积、原子层沉积镀膜、溶液镀膜法和自组装膜等。 |
题名主题: | 薄膜技术 |
中图分类: | TB4 |
个人名称等同: | 冯丽萍 (女,材料学, 编著 |
个人名称等同: | 刘正堂 编著 |
记录来源: | CN CDT 20171012 |