ISBN/价格: | 978-7-111-53615-4:CNY59.00 |
作品语种: | chi inc |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 设计模式精解及面试攻略/.(印)纳拉西母哈·卡鲁曼希(Narasimha Karumanchi),(印)斯克林瓦萨·拉奥·梅达(Sreenivasa Rao Meda)著/.刘品杰译 |
出版发行项: | 北京:,机械工业出版社:,2016.05 |
载体形态项: | 10,246页:;+图:;+24cm |
提要文摘: | 全书共9章,第1章全面概述本书主要内容,帮助读者理解;第2章介绍学习后续章节所必需的UML基本介绍和必要概念;第3章介绍设计模式和模式的分类等概念;第4章讨论创造型模式(抽象工厂、工厂方法、生成器、原型和单件模式);第5章讨论结构型模式(适配器、桥接、组成、装饰、外观、享元和代理模式);第6章阐释行为模式(职责链、命令、解释器、迭代器、中介者、备忘录、观察者、状态、策略、模板方法、访问者模式);第7章针对所有设计模式向初学者提供一些提示;第8章包括常见的面试问题及实际示例;第9章涵盖Java面试问题和其他的一些概念,如MVC模式等。 |
并列题名: | Peeling design patterns for beginners & interviews eng |
题名主题: | 软件设计 |
中图分类: | TP311.1 |
个人名称等同: | 卡鲁曼希 (印) (Karumanchi, Narasimha) 著 |
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个人名称等同: | 梅达 (印) (Meda, Sreenivasa Rao) 著 |
个人名称次要: | 刘品杰 译 |
记录来源: | CN CEOC 20160608 |