书目详细信息
： 先进计算光刻
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-03-078124-6:CNY130.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 先进计算光刻/.李艳秋[等]著 |
| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2024.04 |
| 载体形态项： | 233页:;+图:;+24cm |
| 一般附注： | 国家科学技术学术著作出版基金资助出版 |
| 提要文摘： | 本书主要介绍作者在20余年从事光刻机研发中，建立的先进计算光刻技术，包括矢量计算光刻、快速-全芯片计算光刻、高稳定-高保真计算光刻、光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻等，能够实现快速-高精度-全曝光视场-低误差敏感度的高性能计算光刻。矢量计算光刻包括零误差、全光路严格的矢量光刻成像模型及OPC和SMO技术。快速-全芯片计算光刻包括压缩感知、贝叶斯压缩感知、全芯片压缩感知计算光刻技术。高稳定-高保真计算光刻包括低误差敏感度的SMO技术、全视场多目标SMO技术、多目标标量和矢量光瞳优化技术。光源-掩模-工艺多参数协同计算光刻包括含偏振像差、工件台振动误差、杂散光误差的光刻设备-掩模-工艺多参数协同优化技术。解决传统计算光刻在零误差假设、局域坐标系、理想远心、单个视场点获得的掩模-光源，无法最佳匹配实际光刻系统之所需，导致增加工艺迭代时间的问题。 |
| 题名主题： | 集成电路工艺 电子束光刻 |
| 中图分类： | TN405 |
| 个人名称等同： | 李艳秋 著 |
| 记录来源： | CN 人天书店 20240515 |