ISBN/价格: | 978-7-122-26284-4:CNY35.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 集成电路制造技术/.杜中一著 |
出版发行项: | 北京:,化学工业出版社:,2016.03 |
载体形态项: | 172页:;+24cm |
提要文摘: | 《集成电路制造技术》一书全面系统地介绍了集成电路制造技术, 内容包括:集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。本书简要介绍了集成电路制造的基本理论基础, 系统介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备, 详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。 |
题名主题: | 集成电路工艺 |
中图分类: | TN405 |
个人名称等同: | 杜中一 著 |