ISBN/价格: | 978-7-5621-4112-9:CNY27.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 500000 |
题名责任者项: | 公差配合与技术测量/.王立新,王樑主编 |
版本项: | 2版 |
出版发行项: | 重庆:,西南师范大学出版社:,2009 |
载体形态项: | 249页:;+图:;+26cm |
一般附注: | 21世纪高职高专系列规划教材 |
提要文摘: | 本书共十章。内容主要包括测量技术基础、光滑圆柱体的公差与配合、形状和位置公差及其检测、表面粗糙度及其检测等。 |
题名主题: | 公差 配合 高等教育 教材 |
题名主题: | 技术测量 高等教育 教材 |
中图分类: | TG80 |
个人名称等同: | 王立新 主编 |
个人名称等同: | 王樑 主编 |
记录来源: | CN 110017 20090927 |