ISBN/价格: | 978-7-111-59830-5:CNY99.00 |
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作品语种: | chi |
出版国别: | CN 110000 |
题名责任者项: | 集成电路制造工艺与工程应用/.温德通编著 |
出版发行项: | 北京:,机械工业出版社:,2021 |
载体形态项: | xvii, 241页:;+图 (部分彩图):;+24cm |
相关题名附注: | 英文题名取自封面 |
提要文摘: | 本书以实际应用为出发点,对集成电路制造的主流工艺技术进行了逐一介绍,例如应变硅技术、HKMG技术、SOI技术和FinFET技术,然后从工艺整合的角度,通过图文对照的形式对典型工艺进行介绍,例如隔离技术、硬掩膜版技术、LDD技术、金属硅化技术、ESD IMP工艺技术以及Al和Cu金属互连。然后把这些工艺技术应用于实际工艺流程中,通过实例让读者能快速的掌握具体工艺技术的实际应用。 |
并列题名: | Integrated circuit manufacturing process and engineering application eng |
题名主题: | 集成电路工艺 |
中图分类: | TN405 |
个人名称等同: | 温德通 编著 |
记录来源: | CN ZJF 20210616 |