书目详细信息
： 等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-302-61439-5:CNY149.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用/.张海洋等编著 |
| 版本项： | 2版 |
| 出版发行项： | 北京:,清华大学出版社:,2023 |
| 载体形态项： | 423页:;+照片，图:;+26cm |
| 丛编项： | 高端集成电路制造工艺丛书 |
| 一般附注： | “十三五”国家重点图书出版规划项目 |
| 提要文摘： | 本书以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇，随后是逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的解读。此外，还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系，聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望，以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。 |
| 并列题名： | Plasma etching and its application in large scale integrated circuit manufacturing eng |
| 题名主题： | 大规模集成电路 集成电路工艺 等离子刻蚀 |
| 中图分类： | TN405.98 |
| 个人名称等同： | 张海洋 编著 |
| 记录来源： | CN 91MARC 20230304 |